MEMS Verpackung

Heutzutage stellt jede Technik für die Halbleiterfertigung Einschränkungen in Materialien, Abmessungen und Verarbeitungsparametern. Dadurch werden strenge Konstruktionsgrenzen auf die Interdisziplinarität der MEMS-Geräte gestellt.

Die Fähigkeit, mechanische Elemente mit Unterstützung der Elektronik auf einer Mikroebene zu integrieren, hat mikro-elektromechanische Systeme (MEMS) als eine Basistechnologie gestärkt, die Interesse an eine beeindruckende Palette von Anwendungen ausgelöst hat. Die Herstellung von 3-D-MEMS-Geräten hat sicherlich von der gleichen Ausstattung und Standard-Prozessen profitiert, die in der Halbleiterindustrie verwendet sind.

Bonden-Prozess

Um diese Einschränkungen umzugehen, können Teilkomponenten unabhängig voneinander mithilfe einer Kombination von traditionellen Verfahren und neuen Technologien aufgebaut werden.
Die Teile können dann zusammengebaut oder gekreuzt werden, um ein anspruchsvolleres Gerät zu machen. Dieses Programm stellt jedoch eine Reihe von Herausforderungen für Handhabung, Manöver, Ausrichtung und Befestigung der einzelnen Komponenten.
Der SET Bonder für automatisierte Geräte FC150 hat überlegene Fähigkeit nachgewiesen, heikle Teile (bis zu 200 µm) mit Vakuum zu handhaben und sie besser als ± 1 µm auszurichten.
MEMS-Geräte, sowie adaptive Optiksysteme oder hochwertige Druckköpfe von Tintenstrahldruckern, sind mit Flip-Chip Bonder von SET montiert.

Konferenzberichte

TITLE

ABSTRACT

FROM / PRESENTED AT

Process and Equipment Enhancements for C2W bonding in a 3D Integration Scheme

This paper will review three major areas of process or equipment development surrounding the above problems, namely the issue of throughput enhancement by using a sacrificial adhesive to temporarily tack the dice before collective bonding, the issue of prior or in-situ removal and prevention of surface oxides at the bonding interface, and the issue of local environmental control to reduce particulates and other airborne contaminants. Each of these 3 will be explored with hardware solutions proposed, along with process results on test vehicles or functional devices.

 Presented by Keith Cooper
from SET North America
at IWLPC 2011

Chip-to-Wafer Technologies for High Density 3D Integration

CEA-Leti partnering with SET, STMicroelectronics, ALES and CNRS-CEMES on advanced Chip-to-Wafer technologies for 3D Integration in the frame of the PROCEED project, a 4.2 Million Euros, 24 months project supported by French FIU (Fond Interministeriel Unique). Started in 2009, the goal of the PROCEED project is to demonstrate high alignment accuracy (<1µm) of chip-to-wafer structures made by direct metallic bonding.

  penned by CEA Leti, Minatec campus, CNRS Cemes, ALES, SET, ST Microelectronics and presented at MinaPad 2011

3D-IC Integration using D2C or D2W Alignment Schemes together with Local Oxide Reduction

3-Dimensional interconnection of high density integrated circuits enables building devices with greater functionality with higher performances in a smaller space. This paper explores the chip-to-chip and chip-to-wafer alignment and the associated bonding techniques such as in-situ reflow or thermocompression with a local oxide reduction which contributes to higher yield together with reduction of the force or temperature requirements.

 Presented by Gilbert Lecarpentier from SET at Imaps Device Packaging 2011

Flip-chip die bonding: an enabling technology for 3D integration

3-Dimensional Integration of Integrated Circuits is a method to build greater functionality into ever-smaller spaces for electronic circuitry, wherein dice of varying sizes, materials, or even application types are electrically and mechanically bonded together.

 Presented by Keith Cooper
from 
SET North America
at IWLPC 2010

Die-to-wafer bonding of thin dies using a 2-step approach: high accuracy placement, then gang bonding

25 um thick dies, mounted on thick carrier die, were placed on a 300mm landing wafer using the High Accuracy Die Bonder SET-FC300. The bonding process was either Cu/Cu or Cu/Sn with respective pitch of 108 µm and 408 µm...

 Presented by Gilbert Lecarpentier from SET at Imaps Device Packaging 201

 

Technisches Merkblatt

Das SET Technische Merkblatt Nr. 3 ist eine Zusammenstellung von technischen Artikeln, die von einigen unserer Kunden geschrieben wurden. Ordentlich organisiert und präsentiert, bietet jeder Artikel einzigartige Einblicke in den spannenden Bereich von Bonden Die-zu-Die und Die-zu-Wafer.

 

 




A few titles:



 Study of 15μm Pitch Solder Microbumps for 3D-IC Integration; 
 
 A Fluxless Bonding Process using AuSn or Indium for a Miniaturized Hermetic Package;
 
 High Density Cu-Sn TLP Bonding for 3D Integration;


 Three Dimensional Interconnects with High Aspect Ratio TSVs and Fine Pitch Solder Microbumps;


 An innovative die to wafer 3D integration scheme : Die to wafer oxide or copper direct bonding with planarised oxide inter-die filling;

 

 

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SET Technical Bulletin N°3!