Heißpräge-Lithographie

 

Die Nano-Imprint-Lithographie (NIL) ermöglicht, Strukturen zu reproduzieren, deren Größen so klein wie einige Dutzende oder Hunderte von Nanometern sein können.

Es gibt zwei Hauptprozesse:

  • UV-NIL
  • Heißpräge-Lithographie (HEL)

HEL setzt während des Prägeverfahrens auf Temperatur- und Drucksteuerung.

Vorausgesetzt, dass das Substrat nicht selbst ein thermoplastisches Material wie z.B. Polycarbonat ist, wird es mit dem Heißprägungsmaterial (thermoplastisches Abdeckmittel oder Polymer) mithilfe von Spin-Coater beschichtet.