Lithographie à chaud

 

La Lithographie par Nano-Impression (NIL, Nano Imprint Lithography) permet de dupliquer des motifs dont les dimensions peuvent être de quelques dizaines ou centaines de nanomètres. Il existe deux principaux procédés :

  • La Nanolithographie UV (UV-NIL)
  • La Lithographie par Emboutissage à Chaud (HEL, Hot Embossing Lithography)

La Lithographie par Emboutissage à Chaud repose sur une force et une température contrôlées pendant le procédé d’impression.

À moins que le substrat soit lui-même un thermoplastique, tel que le polycarbonate par exemple, il est revêtu d’un matériau d’emboutissage à chaud (résine thermoplastique ou polymère) à l’aide d’une tournette (spin coater).