NPS300

最佳的微米/纳米复制。

NPS300纳米印刻步进机针对纳米结构的制备而进行了优化,它是第一个将对准后的热压印以及紫外纳米压印光刻综合在同一平台上的工具。NPS300能够以250纳米的堆叠精度来印制20纳米以下的几何图形。

NPS300展示了已经过实践证明的尖端技术解决方案,可满足研发和生产的经济要求。

其灵活的架构提供了出色的加工重复性和独特的大面积成图能力,它可以采用连续步骤和重复模式对最高达300毫米的晶圆进行处理。

NPS300既可以手动装载,也可以用作具有晶圆加载功能的全自动系统。

主要优点

  •  配备了纳米压印光刻工具,它综合了热压印以及紫外纳米压印光刻,在步进和重复模式下,可对最高达300毫米的晶圆进行处理
  •  20纳米以下的印刷分辨率以及250纳米的堆叠精度,应用范围非常广:图案化媒体存储、光学、生物等......
  •  可以添加惰性气体来提高印制速度
  •   精度高、液体配料少
  •  自动印模拾取,具有较高灵活性,并且印模尺寸从50/65毫米可扩展到100毫米
  •  手动或自动化晶圆装载/卸载
  •  空气轴承技术以及花岗岩结构确保了长期的稳定性和可靠

 

技术数据

  NPS300 Datasheet

工艺能力

用于热压印或紫外纳米压印光刻的步进和印模印刻技术是芬兰VTT技术研究中心已经验证过的创新方法。

  • 热压印技术:该方法包括通过控制热量和压力将印模图案转印到热塑性压印材料中
  • 紫外纳米压印光刻技术:是一种使用原位印刻配料以及紫外固化的步进和固化方法。当需要20纳米以下的分辨率时,这种尖端技术就成为了一种替代标准紫外光刻系统的非常有前景的解决方案。

应用

  •  光子器件
  •  高精度微光阵列和光栅
  •  CMOS-MEMS集成
  •  高分辨率OLED显示器
  •  用于移动存储的高密度HDD
  •  其他新兴技术

纳米压印光刻技术

纳米结构的低成本生产方案正在开发中,这可能是半导体、MOEMS与光电子技术未来发展的驱动力。特别是,纳米压印光刻技术(NIL)及其变体已发展成为一种具有成本效益的技术,它可以替代高分辨率电子束光刻技术来印刷小于20纳米的几何形状。

印刻的原理是采用热或是紫外线固化工艺,使用带有纳米图案的印模对聚合物薄膜进行机械按压。带有图案的聚合物可以作为最终设备,例如成像传感器的透镜、微流控芯片、生物医学阵列等。它也可以作为一种高分辨率掩模应用于随后的工艺步骤中。

印刻是一种简单的光刻技术。它有三个基本的工艺步骤:

  •  将印模与已预涂印刻材料的基板进行对准
  •  将印模压入印刻材料以转印印模表面上的图案
  •  将印模从印刻材料中分离出来

我们可以描述三种印刻或压印技术:热压印技术 (HEL),其使用热塑性材料;紫外纳米压印技术(UV-NIL),其使用液体抗蚀剂并在成型后用紫外光进行固化;以及软光刻技术,其使用冲压方法将预先在软印模上处理好的油墨转印到基板上。